第422章 EUV難度更大

　　也順帶，將光刻工藝節點從45納米推進到14納米、10納米。

　　“但是……”該負責人話鋒一轉：

　　“同樣的方法，157納米波光光源疊加浸入技術後，無法降低波長。”

　　“所以，進入euv階段，就需要更為複雜的技術和手段來實現極紫外光源。”

　　啟爾電機負責人介紹完，科益虹源企業負責人接著說：

　　“對，進入euv研發階段，目前的主流方法，是用準分子激光器照射錫球靶材，獲取極紫外光源。”

　　“要做到這一步，需要時間，難度不小。”

　　難度有多大？

　　非常大。

　　要產生13.5納米波長的極紫外光源，需要用高功率準分子激發器，以每秒5萬次的頻率，不斷擊中一個正在高速運動中的小錫球。

　　讓小錫球溫度上升至50萬度，變成等離子體，從而產生極紫外光。

　　這個小錫球大小為三千萬之一米，運動速度為321公里/小時。

　　“目前，能夠提供這種激光器的公司，全球只有一家，德國的通快公司。”

　　“但是通快公司也不能獨立提供，需要北美cymer公司合作和技術授權。”

　　“此外，還需要立陶宛一家公司提供關鍵器材。這家立陶宛公司背後又是北美技術授權……”