第422章 EUV難度更大

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　　“難點很多，光源、物鏡、工作臺等等都是非常關鍵的環節點。”何融明說：

　　“老闆，要不這樣，讓在座的企業負責人介紹一下？術業有專攻，他們更專業，也更容易解釋清楚。”

　　“行。”常樂點頭。

　　於是，啟爾電機負責人先發言：

　　“常總，何總，我先說說吧。”

　　“好。”

　　“首先感謝常總、何總這些年，對啟爾電機的關心和支持，沒有smee的資金支持和幫助，啟爾電機不可能走到上市前夜。”

　　“什麼時候上市？”常樂問。

　　“12月。”

　　“那我們之前買的那些股票要值錢了。”

　　“哈哈……”

　　短暫笑過，啟爾電機負責人開始正式介紹情況：

　　“啟爾電機主要為duvarfi光刻提供浸沒系統。”

　　“通過浸沒系統和光的折線效應，實現了193納米到134納米的等效波長，arf光刻推進到arfi光刻才成為可能。”

　　浸沒系統，就是將鏡片與硅片之間的空間，浸入特殊液體中。

　　由於液體折射率大於1，能夠使193納米波長光源縮短至134納米，從而實現更高分辨率。