常樂 作品
第208章 不會減少只會增多
“非常感謝。如有招待不周請多包涵。”常樂拍拍雷布斯的背。
“應該的。這是公司的第一代工程樣機,請提出寶貴意見。”
雷布斯是工作狂人,參加婚禮也不忘記融入工作。
“好,雷總。一定認真研究這臺樣機,相信會帶來不小的驚喜。”常樂說。
“哪裡,能勉強入眼就已經是榮幸了。”
餘成東帶著樂達汽車董事會集體前來。
“恭喜老闆、老闆娘啊。”餘成東拱手道。
“哈哈,老餘,任總來了,你們可以好好聊一聊。”常樂說。
“好,我正想和他談談合作事情。”餘成東說。
研究院劉朝東、朱學武;
滬微電子的何融明;
華紅半導體的梁青松夫婦;樂達投資參與的十餘家代表性初創企業的負責人;
以及樂達投資公司的部門負責人悉數抵達。
這是曾熙的安排。
這既是常樂、江夏的婚禮,也是難得的洽談、溝通的場合。
樂達系可以藉此機會相互之間加深聯繫。
常樂、江夏和賓客們一一握手,然後交給曾熙、徐小蘭接待安排。
到了晚上。
晚上,常樂帶何融明、梁青松來到任總的套間,交流研發進展情況。
根據當初,雙方的協議和約定,菊廠主要負責edA工具開發和iC設計。
同步推進edA工具的推廣應用,構建生態體系。
此外,操作系統的研發工作,菊廠也在秘密著手。
菊廠將其計劃命名為B計劃,外界並不知曉。
任總的態度一向開放。
多次和常樂表示,B計劃始終是B計劃,非極端情形,更不會替代A計劃。
只有萬不得已情形下,才會啟動。
樂達投資,主要負責製造端環節攻堅。
以smee的光刻機研發為核心載體,連接協同上下游企業、研發機構同向發力、合力攻堅。
其中包括雙工件臺、浸液系統、準分子激光光源、物鏡、照明、曝光等核心零部件的研發,涉及數十家企業和科研機構。
梁青松主導的華紅半導體,則是應用載體,是為小白鼠的角色。
主要為滬smee的設備研發提供試驗場所,簡單說就是適配。
何融明反映情況看,路途還很遙遠,過程還很艱辛、當然前方必然光明。
當前smee的研發進度還停留在第三代掃描投影式光刻機階段,即248nmkrf光刻機。
最小工藝節點在180-130nm之間。
且部分核心零部件需要進口。
踩在euvllc合作組織肩膀上的AsmL,處於狂飆突進狀態。
20多年前,也就是1986年,它們就已經推出第四代光刻機,即193nmArf光刻機。
2007年,與tsmC合作開發出第一臺浸沒式光刻機,即193nmArfi光刻機。
也就是常稱的duv光刻機。
2010年,成功實現32nm工藝節點,正向22nm工藝節點進軍。
第五代光刻機——euv光刻機已經有理論基礎,正在加速推進。
“應該的。這是公司的第一代工程樣機,請提出寶貴意見。”
雷布斯是工作狂人,參加婚禮也不忘記融入工作。
“好,雷總。一定認真研究這臺樣機,相信會帶來不小的驚喜。”常樂說。
“哪裡,能勉強入眼就已經是榮幸了。”
餘成東帶著樂達汽車董事會集體前來。
“恭喜老闆、老闆娘啊。”餘成東拱手道。
“哈哈,老餘,任總來了,你們可以好好聊一聊。”常樂說。
“好,我正想和他談談合作事情。”餘成東說。
研究院劉朝東、朱學武;
滬微電子的何融明;
華紅半導體的梁青松夫婦;樂達投資參與的十餘家代表性初創企業的負責人;
以及樂達投資公司的部門負責人悉數抵達。
這是曾熙的安排。
這既是常樂、江夏的婚禮,也是難得的洽談、溝通的場合。
樂達系可以藉此機會相互之間加深聯繫。
常樂、江夏和賓客們一一握手,然後交給曾熙、徐小蘭接待安排。
到了晚上。
晚上,常樂帶何融明、梁青松來到任總的套間,交流研發進展情況。
根據當初,雙方的協議和約定,菊廠主要負責edA工具開發和iC設計。
同步推進edA工具的推廣應用,構建生態體系。
此外,操作系統的研發工作,菊廠也在秘密著手。
菊廠將其計劃命名為B計劃,外界並不知曉。
任總的態度一向開放。
多次和常樂表示,B計劃始終是B計劃,非極端情形,更不會替代A計劃。
只有萬不得已情形下,才會啟動。
樂達投資,主要負責製造端環節攻堅。
以smee的光刻機研發為核心載體,連接協同上下游企業、研發機構同向發力、合力攻堅。
其中包括雙工件臺、浸液系統、準分子激光光源、物鏡、照明、曝光等核心零部件的研發,涉及數十家企業和科研機構。
梁青松主導的華紅半導體,則是應用載體,是為小白鼠的角色。
主要為滬smee的設備研發提供試驗場所,簡單說就是適配。
何融明反映情況看,路途還很遙遠,過程還很艱辛、當然前方必然光明。
當前smee的研發進度還停留在第三代掃描投影式光刻機階段,即248nmkrf光刻機。
最小工藝節點在180-130nm之間。
且部分核心零部件需要進口。
踩在euvllc合作組織肩膀上的AsmL,處於狂飆突進狀態。
20多年前,也就是1986年,它們就已經推出第四代光刻機,即193nmArf光刻機。
2007年,與tsmC合作開發出第一臺浸沒式光刻機,即193nmArfi光刻機。
也就是常稱的duv光刻機。
2010年,成功實現32nm工藝節點,正向22nm工藝節點進軍。
第五代光刻機——euv光刻機已經有理論基礎,正在加速推進。