第2084章 沉浸式光刻理論

新生的euvLLC聯盟則押注更激進的極紫外技術，在對未來的展望是用僅有十幾納米的極紫外光，刻十納米以下的芯片製程。

也就是說，AsmL現在正在研發的193nm製程以下的光刻機，使用極紫外技術，是光刻機領域一個新的征程的起點。

正在做著從零到一，從虛無到實質的嘗試性躍遷。

假如能夠成功，那麼再從一到二，從二到三，則是順理成章的依次類推遞進。

而尼康想要研發的157nmf2激光光刻機，則是一個垂垂老矣迴光返照式的最後的榮光尊嚴和驕傲，之後則要面對著157nm製程的極限天塹無法跨越，則是註定被掃進時光的垃圾桶裡面。

這裡面按道理孰優孰劣，已經是一目瞭然。

但是尼康所要做的事情，有著很大的成功性，然而AsmL集中數百億資金押注極紫外光，無異於是一場世紀豪賭。

贏了大家都去會所嫩模，輸了都去磚窯搬磚下苦力，雖然兩者乾的都是體力活，然而一個是男人的天堂，一個是男人的煉獄。

在趙長安的這個時代，歷史上的一些微小細節還是和他記憶中的前一世有著細微的差別。

那個在趙長安的那個時空裡面，拿著自己的那一套‘沉浸式光刻’理論，跑遍世界一流的光刻機企業的林博士，在這個時空卻因為突然發了財，又遇到了自己的真愛，整天享受著快樂的夫妻生活，根本就沒有想到這個方法。

假如想要降低光的波長，光源出發是根本方法，水會影響光的折射率——在透鏡和硅片之間加一層水，原有的193nm激光經過折射，不就直接越過了157nm的天塹，降低到132nm？

也就是說，現在在這個世界上，只有趙長安一人知道這個‘沉浸式光刻理論’！